核心产品 · 纳米级沉积设备
我们提供全系列国产首创薄膜沉积装备，覆盖 半导体前端、功率器件、新型显示 及 新能源电池 领域。
ALD 原子层沉积系统
国内首创 量产型ALD，纳米级精度，适用于高介电常数薄膜、高深宽比结构。服务于 先进逻辑芯片 与 3D NAND。
PVD 磁控溅射/蒸发
高纯金属薄膜，均匀性好，适用于 电极材料、阻挡层 和 光学镀膜。国产化替代，成本降低40%。
CVD 高均匀性系统
等离子体增强 PECVD / LPCVD，介质层、钝化层沉积，膜厚均匀性±1%，满足 功率半导体 严苛需求。
Epi 外延炉 (SiC)
专为 碳化硅(SiC) 功率器件设计，6/8英寸外延生长，缺陷密度极低，助力 新能源车 和 高压电网。
应用领域 · 前沿科技全覆盖
半导体
适用于 逻辑芯片、存储芯片 的先进制程薄膜沉积，已进入国内主流产线。
碳化硅
SiC外延 设备批量出货，服务车规级功率器件，打破国外垄断。
Mini/Micro‑LED
高精度 ALD钝化层 与 PVD电极，提升显示亮度与寿命。
锂电池
固态电池 薄膜化工艺，为下一代储能提供关键装备。
技术优势 · 国产化里程碑
核心指标领先
- 膜厚均匀性 ≤ ±0.5% (业内顶级)
- 颗粒缺陷 < 10颗 (>0.1μm) 每片
- 设备稼动率 ≥ 95%
- 国产化率 85% 以上，维护响应 <24h
已获 国内首创 认定，并通过 SEMI S2 认证，客户包括头部IDM与Foundry。
定制化服务与技术支持
我们提供 工艺开发、整线集成 和 远程诊断，与客户联合研发下一代 原子层刻蚀 与 选择性沉积 工艺。
亚星平台 · 一站式解决方案
亚星官网 汇聚最新产品资讯与技术支持。我们以 纳米级精度 为核心，提供从研发到量产的完整工具链。亚星尚茂科技，与行业伙伴共筑先进制造新生态。
服务全球客户
从 亚星平台官网 提交需求，获得快速响应。我们提供 工艺验证 和 样片测试，助力客户加速产品迭代。